真空气氛烧结炉是一种用于材料高温处理的加热装置,集真空环境和气氛控制功能于一体。它通常用于陶瓷、粉末冶金、金属制造等领域的烧结工艺,可在特定的气氛条件下进行烧结,达到材料致密化、结晶化或合金化的目的。温度范围选择 400-2000℃,真空度不大于 0.001pa。
标准功能:
真空结构: 真空气氛烧结炉的形状类似于一个圆形罐,内部空间用于放置待处理的材料样品。圆罐式设计可满足更高的真空要求。
真空环境: 真空气氛烧结炉可在真空环境中加热。通过去除炉膛中的氧气和其他气体,可以防止材料氧化和脱气,提高材料的纯度和质量。
气氛控制: 除真空环境外,真空气氛箱式炉还可控制气氛环境,如氮气、氩气和其他惰性气体环境。这有助于控制材料的化学反应、脱气和纯度。
高温加热:真空气氛箱式炉通常能够提供高温加热,在空气(钨加热)下温度可达 2000 °C。因此适用于需要高温加工的材料,如金属、陶瓷、玻璃等。
精确控制: 真空气氛箱式炉通常配有高精度温度控制系统,可精确控制加热过程中的温度、压力和气氛成分,以满足不同材料加热处理的需要。
真空度:由于其结构特点,真空气氛烧结炉可承载较高的压力和真空度,一般可满足 0.001Pa 的正负压。在炉内真空的基础上,引入大气,使烧结环境更加纯净。
气路和流量: 真空气氛箱式炉配有 2 个标准进气口,包括浮子流量计和指针式压力表。功能和产品膨胀可在此基础上进行。
真空泵装置: 真空炉配有机械旋转泵(可满足 0.1Mpa 真空),为满足更高的真空需求,可定制罗茨泵和扩散泵及分子泵单元。
可选功能:
控制模式定制: 由传统国产仪表进行 PID 控制,也可定制进口仪表或 PLC 控制。多种选择满足不同客户的使用习惯。
炉门开启方式:传统开启方式为侧开,开启方向和开启方式可定制,手动、半自动、自动化均可。
多面加热: 根据炉子的大小,在尽可能保证炉温均匀性的同时,Y&H提供额外的多面加热选择,以满足更高炉温均匀性的要求。
多点温度控制: 根据不同使用场景的要求,客户可选择多面加热,以提高热辐射效率和炉温覆盖率。
排气口和气路: 根据客户要求,增加排气口和气路以及流量计,满足客户对工艺的要求。
触摸屏控制: Y&H 可根据市场上流行的工业触摸屏集合制作触摸屏控制系统,报表、数据、实时观察和下载。
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